[实用新型]光刻机台供水设备、涂胶显影机和光刻机有效
| 申请号： | 201820919744.7 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN208444135U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 赵鹏;徐猛;古哲安;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种光刻机台供水设备、涂胶显影机和光刻机，光刻机台供水设备包括供水管路，其被配置为向显影后的晶圆表面提供去离子水，所述供水设备还包括与所述供水管路连接的溶气装置以及向所述溶气装置中通入气体的供气管路，经过所述溶气装置的去离子水与由所述供气管路通入的气体发生接触。通过在供水管路中增设简单的溶气装置，使得机台中的供水管路在向显影后的晶圆表面提供去离子水时能够溶入一定量的气体。该供水设备可以通过合理选择气体的种类，一方面提高去离子水的电离程度，降低去离子水的电阻率，以将晶圆表面电荷导出；另一方面保证气体生成的电解质的腐蚀性或酸性无法腐蚀晶圆表面或参与光刻胶成像反应，影响其成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 供水设备 去离子水 机台 供水管路 晶圆表面 溶气装置 光刻 涂胶显影机 供气管路 光刻机 显影 电解质 本实用新型 光刻胶成像 气体发生 气体生成 电荷 电阻率 电离 导出 成像 腐蚀 增设 配置 保证 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机台供水设备，包括供水管路，其被配置为向显影后的晶圆表面提供去离子水，其特征在于，还包括与所述供水管路连接的溶气装置以及向所述溶气装置中通入气体的供气管路，经过所述溶气装置的去离子水与由所述供气管路通入的气体发生接触。
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