[实用新型]光刻机台供水设备、涂胶显影机和光刻机有效
| 申请号： | 201820919744.7 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN208444135U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 赵鹏;徐猛;古哲安;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 供水设备 去离子水 机台 供水管路 晶圆表面 溶气装置 光刻 涂胶显影机 供气管路 光刻机 显影 电解质 本实用新型 光刻胶成像 气体发生 气体生成 电荷 电阻率 电离 导出 成像 腐蚀 增设 配置 保证 | ||
1.一种光刻机台供水设备，包括供水管路，其被配置为向显影后的晶圆表面提供去离子水，其特征在于，还包括与所述供水管路连接的溶气装置以及向所述溶气装置中通入气体的供气管路，经过所述溶气装置的去离子水与由所述供气管路通入的气体发生接触。
2.如权利要求1所述的光刻机台供水设备，其特征在于，由所述供气管路通入的气体为二氧化碳气体。
3.如权利要求2所述的光刻机台供水设备，其特征在于，经过所述溶气装置后流出的溶有二氧化碳的去离子水，其pH值为5～6。
4.如权利要求1所述的光刻机台供水设备，其特征在于，所述溶气装置包括与所述供水管路连通的进水口和出水口、与所述供气管路连通的溶气腔体以及设置于所述溶气腔体内的多根膜管，所述膜管采用防水透气膜材料制得，其两端分别与所述进水口和所述出水口连通。
5.如权利要求4所述的光刻机台供水设备，其特征在于，所述多根膜管为相互平行地设置的直管。
6.如权利要求4所述的光刻机台供水设备，其特征在于，所述供气管路具有阀门，所述溶气装置沿所述供水管路的下游设置有pH计，所述阀门根据所述pH计测得的去离子水pH值大小而调节所述供气管路的供气量。
7.如权利要求1所述的光刻机台供水设备，其特征在于，还包括冷却装置，所述供水管路中的去离子水经过所述冷却装置冷却后进入所述溶气装置，所述冷却装置能够将所述去离子水冷却至0～20℃范围内。
8.一种涂胶显影机，其特征在于，所述涂胶显影机具有如权利要求1-7任一项所述的光刻机台供水设备。
9.如权利要求8所述的涂胶显影机，其特征在于，包括所述供水管路对应的晶圆承载台，所述晶圆承载台用于晶圆显影后的显影液清洗，其被配置为能够以2500～4000r/min的转速旋转。
10.一种光刻机，其特征在于，所述光刻机具有如权利要求1-7任一项所述的光刻机台供水设备。
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