[实用新型]载台表面清洁装置

摘要

本实用新型提供一种载台表面清洁装置，该装置包括晶圆载台、化学机械研磨头及研磨头移动件，研磨头移动件的连接端包括旋转盘，化学机械研磨头在旋转盘的带动下高速旋转，化学机械研磨头上设有化学清洁剂喷出管道和化学清洁剂回收管道，化学清洁剂喷出管道的导出口位于化学机械研磨头研磨面的中央，化学清洁剂回收管道的吸入口位于化学机械研磨头研磨面的周边，化学清洁剂喷出管道和化学清洁剂回收管道贯穿化学机械研磨头。本实用新型避免了污染物对晶圆平坦度的影响，改善曝光时晶圆平坦化效果，避免光刻后图形失焦及层迭对准表现不佳，增加了产品良率。

主权项

1.一种载台表面清洁装置，用于光刻胶曝光制程的前段整修，包括：晶圆载台，具有一承载面，用于承载待处理的晶圆；设置于所述晶圆载台上方的化学机械研磨头，所述化学机械研磨头具有一朝下的研磨面与所述晶圆载台的承载面相对，用于移除所述承载面上的污染物，并且所述研磨面的面积小于所述晶圆载台的所述承载面的面积；研磨头移动件，位于所述晶圆载台的上方并连接所述化学机械研磨头，所述研磨头移动件的连接端包括旋转盘，用于带动所述化学机械研磨头进行旋转；其特征在于，所述化学机械研磨头具有化学清洁剂喷出管道和化学清洁剂回收管道，所述化学清洁剂喷出管道的导出口位于所述研磨面的中央，所述化学清洁剂回收管道的吸入口位于所述研磨面的周边，所述化学清洁剂喷出管道和所述化学清洁剂回收管道贯穿所述化学机械研磨头。