[实用新型]载台表面清洁装置有效

专利信息
申请号: 201820608414.6 申请日: 2018-04-26
公开(公告)号: CN208514315U 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34
代理公司: 上海市锦天城律师事务所 31273 代理人: 何金花
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 化学清洁剂 化学机械研磨头 回收管道 喷出 表面清洁装置 本实用新型 研磨 旋转盘 研磨头 移动件 晶圆 载台 化学机械研磨 产品良率 晶圆载台 导出口 连接端 平坦度 平坦化 吸入口 光刻 失焦 对准 污染物 曝光 贯穿 表现
【权利要求书】:

1.一种载台表面清洁装置,用于光刻胶曝光制程的前段整修,包括:

晶圆载台,具有一承载面,用于承载待处理的晶圆;

设置于所述晶圆载台上方的化学机械研磨头,所述化学机械研磨头具有一朝下的研磨面与所述晶圆载台的承载面相对,用于移除所述承载面上的污染物,并且所述研磨面的面积小于所述晶圆载台的所述承载面的面积;

研磨头移动件,位于所述晶圆载台的上方并连接所述化学机械研磨头,所述研磨头移动件的连接端包括旋转盘,用于带动所述化学机械研磨头进行旋转;

其特征在于,所述化学机械研磨头具有化学清洁剂喷出管道和化学清洁剂回收管道,所述化学清洁剂喷出管道的导出口位于所述研磨面的中央,所述化学清洁剂回收管道的吸入口位于所述研磨面的周边,所述化学清洁剂喷出管道和所述化学清洁剂回收管道贯穿所述化学机械研磨头。

2.根据权利要求1所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述研磨头移动件还包括机械手臂。

3.根据权利要求1所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述化学机械研磨头还包括环形排出沟,所述环形排出沟设置于所述研磨面的周边,所述环形排出沟与所述化学清洁剂回收管道连通。

4.根据权利要求3所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述环形排出沟距离所述化学机械研磨头具有一间隙且不相连通。

5.根据权利要求3所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述环形排出沟的内径介于47毫米~49毫米,所述环形排出沟的外径介于50毫米~59毫米。

6.根据权利要求1所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述化学机械研磨头的成份包括大理石,所述化学机械研磨头为圆柱状,所述化学机械研磨头横截面的直径介于60毫米~65毫米。

7.根据权利要求1所述的载台表面清洁装置,其特征在于,还包括设置于所述化学机械研磨头上方的化学清洁剂提供装置和干燥空气供给装置,所述化学清洁剂提供装置和所述干燥空气供给装置分别与所述化学清洁剂喷出管道相连通。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述化学清洁剂喷出管道的下端部设有喇叭状混合喷嘴。

9.根据权利要求8所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述化学机械研磨头还包括环形排出沟,所述环形排出沟设置于所述研磨面的周边,所述环形排出沟与所述化学清洁剂回收管道连通,所述喇叭状混合喷嘴的高度大于所述环形排出沟的深度。

10.根据权利要求8所述的载台表面清洁装置,其特征在于,所述喇叭状混合喷嘴上端口的内径介于5毫米~6毫米,所述喇叭状混合喷嘴下端口的内径介于10毫米~12毫米。

11.一种应用权利要求1至7任一项所述载台表面清洁装置的晶圆表面整平装置,用于整修晶圆上的局部突起,包括:

用于设置于待整平晶圆上方的化学机械研磨头,所述化学机械研磨头具有一朝下的研磨面与所述待整平晶圆相对,用于整平所述待整平晶圆上的突起物,并且所述研磨面的面积小于所述待整平晶圆的面积;

研磨头移动件,位于所述待整平晶圆的上方并连接所述化学机械研磨头,所述研磨头移动件的连接端包括旋转盘,用于带动所述化学机械研磨头进行旋转;

其特征在于,所述化学机械研磨头具有化学清洁剂喷出管道和化学清洁剂回收管道,所述化学清洁剂喷出管道的导出口位于所述研磨面的中央,所述化学清洁剂回收管道的吸入口位于所述研磨面的周边,所述化学清洁剂喷出管道和所述化学清洁剂回收管道贯穿所述化学机械研磨头。

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