[实用新型]晶圆位置检测装置及涂胶机有效
申请号: | 201820229029.0 | 申请日: | 2018-02-09 |
公开(公告)号: | CN207816190U | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 张荃雄;赵鹏;徐猛;沈雪;顾中良;苏延洪 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;H01L21/67 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤;董琳 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种晶圆位置检测装置和涂胶机,所述晶圆位置检测装置用于当晶圆位于基台上时,检测晶圆中心与基台中心之间的偏差,包括:光源;光量检测器,所述光量检测器的检测端与所述光源相对,用于分别设置于基台所在平面的两侧,用于检测所述光源发出的光到达所述检测端的光量。所述晶圆位置检测装置能够避免晶圆位置偏差造成的涂胶厚度不均匀问题。 | ||
搜索关键词: | 晶圆位置 检测装置 光源 光量检测器 涂胶机 基台 检测 位置检测装置 本实用新型 晶圆中心 所在平面 不均匀 检测端 光量 晶圆 涂胶 种晶 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆位置检测装置,用于当晶圆位于基台上时,检测晶圆中心与基台中心之间的偏差,其特征在于,包括:光源;光量检测器,所述光量检测器的检测端与所述光源相对,用于分别设置于基台所在平面的两侧,用于检测所述光源发出的光到达所述检测端的光量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司,未经德淮半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820229029.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种全自动二次元测量仪
- 下一篇:一种带模号识别孔的卡胚头