[实用新型]一种涂胶装置和光刻机有效
| 申请号： | 201820167136.5 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN207780481U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 赵滨;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种涂胶装置和光刻机，该涂胶装置包括承载单元，用于放置并吸附基底；涂胶单元，悬置于所述承载单元上方，用于在所述基底的表面涂覆胶层；残胶回收单元，包围所述承载单元及所述基底，用于收集涂胶过程中的残胶。本实用新型的技术方案通过设置残胶回收单元，可以将残胶收集，收集的残胶经过后续进一步处理后可以再次利用，提高了胶材的利用率，解决了基底外掉落的胶材直接废弃造成的光刻胶损失严重的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 残胶 基底 承载单元 涂胶装置 本实用新型 回收单元 光刻机 胶材 表面涂覆 涂胶单元 再次利用 光刻胶 掉落 胶层 涂胶 吸附 废弃 包围 | ||
【主权项】：
1.一种涂胶装置，其特征在于，包括：承载单元，用于放置并吸附基底；涂胶单元，悬置于所述承载单元上方，用于在所述基底的表面涂覆胶层；残胶回收单元，包围所述承载单元及所述基底，用于收集涂胶过程中的残胶。
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