[实用新型]一种涂胶装置和光刻机有效
| 申请号： | 201820167136.5 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN207780481U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 赵滨;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 残胶 基底 承载单元 涂胶装置 本实用新型 回收单元 光刻机 胶材 表面涂覆 涂胶单元 再次利用 光刻胶 掉落 胶层 涂胶 吸附 废弃 包围 | ||
1.一种涂胶装置，其特征在于，包括：
承载单元，用于放置并吸附基底；
涂胶单元，悬置于所述承载单元上方，用于在所述基底的表面涂覆胶层；
残胶回收单元，包围所述承载单元及所述基底，用于收集涂胶过程中的残胶。
2.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述承载单元包括支撑柱和承片台；
所述承片台位于所述支撑柱的上端。
3.根据权利要求2所述的涂胶装置，其特征在于，所述承片台为圆柱体。
4.根据权利要求2所述的涂胶装置，其特征在于，所述承片台的侧边均匀设置有多个出气孔。
5.根据权利要求4所述的涂胶装置，其特征在于，所述承片台的内部设置有至少一个气道，所述气道在所述承片台侧边的截面形成所述出气孔。
6.根据权利要求4所述的涂胶装置，其特征在于，所述出气孔的直径小于或者等于1mm。
7.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述残胶回收单元包括残胶收集器和残胶存储器；
所述残胶收集器包围所述承载单元及所述基底；
所述残胶收集器的底端设置有胶材出口；
所述残胶存储器置于残胶收集器的下方，用于存储由残胶收集器收集的胶材。
8.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述涂胶单元包括刮胶头，所述刮胶头包括注胶口和出胶口，所述出胶口为狭缝结构。
9.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，还包括基台，所述基台用于固定所述承载单元和所述残胶回收单元。
10.一种光刻机，其特征在于，包括利用权利要求1-9任一项所述的涂胶装置以及曝光显影元件；
其中，所述涂胶装置用于在基底表面涂覆胶层，所述曝光显影元件用于曝光显影所述胶层，形成目标图案。
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