[实用新型]自清洗半导体晶圆研磨设备

摘要

本实用新型提供了自清洗半导体晶圆研磨设备，包括电机，固定轮，研磨盘，设置于固定轮底部，旋转主轴，设置于所述固定轮内，且旋转主轴与固定轮内壁之间设置有间隙，旋转主轴的一端与电机轴连接，另一端与研磨盘连接，旋转主轴通过电机带动其转动，从而带动研磨盘进行转动；固定轮底部设置有出水孔；清洗水管，清洗水管的出水端设置于所述研磨盘与所述固定轮间隙内。本实用新型的有益效果是，在使用过程中对研磨盘与固定轮之间进行冲洗，保持两者之间的清洁；通过经常的清洗，使得研磨盘保持干净，也便于后续的拆卸，提高了更换效率，减少由于更换研磨盘带来的损失；清洗水在清洗的同时，还可以作为研磨硅片的冷却水，达到有助于硅片的研磨作用。

主权项

1.自清洗半导体晶圆研磨设备，包括电机，用于驱动设备运转的驱动机构；固定轮，设置于所述电机的下方，其特征在于：所述设备还包括，研磨盘，设置于所述固定轮底部，用于与晶圆接触进行研磨；旋转主轴，设置于所述固定轮内，且所述旋转主轴与所述固定轮内壁之间设置有间隙，所述旋转主轴的一端与电机轴连接，另一端与研磨盘连接，所述旋转主轴通过电机带动其转动，从而带动所述研磨盘进行转动；所述固定轮底部设置有出水孔；清洗水管，用于清洗研磨盘与固定盘之间的间隙，所述清洗水管的出水端设置于所述研磨盘与所述固定轮间隙内。