[实用新型]单腔循环连续式类金刚石涂层装置有效
申请号: | 201820031773.X | 申请日: | 2018-01-09 |
公开(公告)号: | CN207958497U | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 郎文昌 | 申请(专利权)人: | 温州职业技术学院 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/06;C23C16/54;C23C16/26 |
代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 陈加利 |
地址: | 325000 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用涉及一种单腔循环连续式类金刚石涂层装置,包括主腔体、主真空系统及类金刚石涂层工艺组件,主腔体设置有主腔室,主真空系统将主腔室进行真空处理,主腔体还设置有可开合的进料口,还包括转盘、转盘升降机构、转盘转动机构、进料腔室、类金刚石涂层工艺腔室及进料子腔室真空系统,转盘转动机构驱动转盘水平转动,将待镀工件在进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室之间传递,转盘升降机构驱动转盘升降,将进料腔室及类金刚石涂层工艺腔室在与主腔室联通的状态及独立真空腔室的状态之间切换,进料子腔室真空系统安装于主腔体并将进料腔室进行真空处理。采用上述方案,本实用提供一种可在一个真空腔内实现低成本的环形循环连续式类金刚石涂层制备。 | ||
搜索关键词: | 类金刚石涂层 进料腔室 主腔体 腔室 工艺腔室 转盘升降机构 转盘转动机构 循环连续式 驱动转盘 真空处理 真空系统 主腔室 主真空 单腔 待镀工件 独立真空 工艺组件 环形循环 水平转动 低成本 进料口 可开合 连续式 真空腔 联通 制备 转盘 升降 传递 | ||
【主权项】:
1.一种单腔循环连续式类金刚石涂层装置,包括主腔体、主真空系统及类金刚石涂层工艺组件,所述的主腔体内设置有主腔室,所述的主真空系统将主腔室进行真空处理,所述的主腔体设置有可开合的进料口,其特征在于:还包括转盘、转盘转动机构、转盘升降机构、进料子腔体、三个类金刚石涂层工艺子腔体及进料子腔室真空系统,所述的转盘转动机构驱动转盘水平转动设置于主腔室内,所述的进料子腔体及类金刚石涂层工艺子腔体安装于主腔体顶部上盖板,所述的进料子腔体及三个类金刚石涂层工艺子腔体位于转盘上方并沿转盘环形周向等距排布,所述的进料子腔体及类金刚石涂层工艺子腔体底部设置有朝向转盘的密封口,所述的转盘在转盘升降机构驱动其上升时,将进料子腔体的密封口密封并构成进料腔室,将类金刚石涂层工艺子腔体的密封口密封并构成类金刚石涂层工艺腔室,所述的进料子腔室真空系统将进料腔室单独进行真空处理,所述的转盘上方用于放置待镀工件,并在转盘转动机构驱动其转动时将待镀工件在进料腔室及各类金刚石涂层工艺腔室之间传递,所述的镀膜工艺组件安装于类金刚石涂层工艺子腔体对应的主腔体顶部上盖板且各类金刚石涂层工艺组件的功能不同,所述的类金刚石涂层工艺组件依次为离子清洗模块、过渡涂层模块、类金刚石涂层模块。
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