[实用新型]单腔循环连续式类金刚石涂层装置

权利要求书

1.一种单腔循环连续式类金刚石涂层装置，包括主腔体、主真空系统及类金刚石涂层工艺组件，所述的主腔体内设置有主腔室，所述的主真空系统将主腔室进行真空处理，所述的主腔体设置有可开合的进料口，其特征在于：还包括转盘、转盘转动机构、转盘升降机构、进料子腔体、三个类金刚石涂层工艺子腔体及进料子腔室真空系统，所述的转盘转动机构驱动转盘水平转动设置于主腔室内，所述的进料子腔体及类金刚石涂层工艺子腔体安装于主腔体顶部上盖板，所述的进料子腔体及三个类金刚石涂层工艺子腔体位于转盘上方并沿转盘环形周向等距排布，所述的进料子腔体及类金刚石涂层工艺子腔体底部设置有朝向转盘的密封口，所述的转盘在转盘升降机构驱动其上升时，将进料子腔体的密封口密封并构成进料腔室，将类金刚石涂层工艺子腔体的密封口密封并构成类金刚石涂层工艺腔室，所述的进料子腔室真空系统将进料腔室单独进行真空处理，所述的转盘上方用于放置待镀工件，并在转盘转动机构驱动其转动时将待镀工件在进料腔室及各类金刚石涂层工艺腔室之间传递，所述的镀膜工艺组件安装于类金刚石涂层工艺子腔体对应的主腔体顶部上盖板且各类金刚石涂层工艺组件的功能不同，所述的类金刚石涂层工艺组件依次为离子清洗模块、过渡涂层模块、类金刚石涂层模块。

2.根据权利要求1所述的单腔循环连续式类金刚石涂层装置，其特征在于：所述的转盘升降机构包括安装于主腔体并位于转盘下方的侧升降气缸及中升降气缸，所述的侧升降气缸驱动设置有与转盘放置待镀工件位置下方相抵的侧升降板，所述的中升降气缸驱动设置有中升降板，所述的中升降板设置有与转盘中部相抵的支撑杆。

3.根据权利要求1所述的单腔循环连续式类金刚石涂层装置，其特征在于：所述的转盘转动机构包括安装于主腔体并位于转盘下方的转盘电机，所述的转盘电机驱动设置有转盘电机轴，所述的转盘电机轴与转盘周向联动。

4.根据权利要求1所述的单腔循环连续式类金刚石涂层装置，其特征在于：所述的进料口设置于主腔体顶部并与进料腔室相联通，所述的进料口设置有可开合的封闭门板及将封闭门板锁定的锁定机构。

5.根据权利要求1所述的单腔循环连续式类金刚石涂层装置，其特征在于：所述的主腔体上盖板与各类金刚石涂层工艺子腔体对应位置设置有安装口，各所述的类金刚石涂层工艺组件可拆卸的安装于相对应的类金刚石涂层工艺子腔体的安装口位置。

6.根据权利要求书1所述的单腔循环连续式类金刚石涂层装置，其特征在于：所述的过渡涂层模块包括磁控溅射模块、多弧离子镀模块及其他沉积金属及金属化合物的物理气相沉积模块。

7.根据权利要求书6所述的单腔循环连续式类金刚石涂层装置，其特征在于：所述的类金刚石涂层模块包括等离子辅助化学气相沉积碳粒子模块及弧光电子流激发等离子体活化的等离子增强化学气相沉积模块及其他高能离化沉积的碳粒子源。