[发明专利]基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法有效
| 申请号： | 201811630056.X | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109491217B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 俞海滨;于世瑞;赵璇 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201315 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明将特殊结构加入到光刻模型数据中，在标准图形参数空间的基础上，通过对其中部分数据结构的比重数值进行调整，继而实现对光刻模型进行微调，改善原有光刻模型的目标，在对原有数据模拟图形不产生变化或变化很小的前提下，使得新光刻模型再次能够覆盖特殊结构。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 图形 参数 空间 调整 光刻 模型 覆盖 特殊 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，具有：一标准图形参数，该标准图形参数的一集合为一标准图形参数空间；一特殊结构的图形，使用该光刻模型对该特殊结构的图形进行模拟计算，得到该特殊结构的模拟图形，并得到该特殊结构在该标准图形参数空间中所映射的点，确定该特殊结构在该标准图形参数空间中的分布情况。
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