[发明专利]基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法

权利要求书

1.一种基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，具有：

一标准图形参数，该标准图形参数的一集合为一标准图形参数空间；

一特殊结构的图形，使用该光刻模型对该特殊结构的图形进行模拟计算，得到该特殊结构的模拟图形，并得到该特殊结构在该标准图形参数空间中所映射的点，确定该特殊结构在该标准图形参数空间中的分布情况。

2.根据权利要求1所述的基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，还具有一测试图形数据集合一，在该光刻模型中对该测试图形数据进行模拟计算得到该测试图形数据在该标准图形参数空间中所映射的点，确定该测试图形数据在该标准图形参数空间中的分布情况。

3.根据权利要求2所述的基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，该测试图形数据对应一比重数值，根据该测试图形数据在该标准图形参数空间中的映射关系，确定该比重数值在该标准图形参数空间中的分布情况。

4.根据权利要求2或3所述的基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，对比该特殊结构在该标准图形参数空间中的分布情况和该测试图形数据在该标准图形参数空间中的分布情况，筛选出与该特殊结构在该标准图形参数空间分布区域相同的测试图形数据，将测试图形集合一分成两部分：在相同区域的测试图形集合二，和不在同一区域的测试图形集合三。

5.根据权利要求3所述的基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，对比该测试图形数据对应的比重数值在该标准图形参数空间中的分布情况，对该特殊结构设置一与特殊结构相对应的比重数值。

6.根据权利要求3所述的基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，

对比该特殊结构在该标准图形参数空间中的分布情况和该测试图形数据在该标准图形参数空间中的分布情况，筛选出与该特殊结构在该标准图形参数空间分布区域相同的测试图形数据，将测试图形集合一分成两部分：在相同区域的测试图形集合二，和不在同一区域的测试图形集合三；

对比该测试图形数据对应的比重数值在该标准图形参数空间中的分布情况，对该特殊结构设置一与特殊结构相对应的比重数值，对测试图形集合二中的数据设置相对应的比重数值。

7.根据权利要求6所述的基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，其特征在于，具有一光刻模型数据的集合包含该特殊结构的光刻模型数据和比重数值、测试图形集合三、和调整比重数值后的测试图形集合二，该特殊结构的光刻模型数据和比重数值在该标准图形参数空间中对应一新的点。

8.一种基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法，具有：

一标准图形参数，该标准图形参数的一集合为一标准图形参数空间；

其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，在该光刻模型中，该光刻模型包括一测试图形数据，通过计算得到该测试图形数据在该标准图形参数空间中的分布情况，确定测试图形数据在标准图形参数空间中的覆盖范围；

步骤二，在该光刻模型中，各测试图形数据分别对应一比重数值，通过计算得到该比重数值在该标准图形参数空间中的分布情况；

步骤三，在该光刻模型中，对特殊结构的图形进行模拟计算，得到该特殊结构的模拟图形，通过计算得到该特殊结构在该标准图形参数空间中的分布情况；

步骤四，对比光刻模型中的测试图形数据的集合在标准图形参数空间中的分布情况和特殊结构在标准图形参数空间中的分布情况，在标准图形参数空间中通过计算得到与特殊结构具有相同分布区域的测试图形数据的集合；

步骤五，根据该比重数值在该标准图形参数空间中的分布情况，以及该特殊结构在该标准图形参数空间中的分布情况，对特殊结构设置一对应该特殊结构的比重数值，并对该测试图形数据对应的比重数值进行调整，获得一光刻模型数据；

步骤六，根据新的光刻模型数据，进行模拟拟合计算，对该光刻模型进行微调，得到覆盖特殊结构的新的光刻模型。