[发明专利]阵列基板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811615770.1 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN109742087B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 卢改平;唐维;黄建龙 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种阵列基板及其制备方法,所述阵列基板包括:基层、第一薄膜晶体管结构层、平坦层、平坦层凹槽以及第二薄膜晶体管结构层。所述阵列基板的制备方法包括:基层设置步骤、第一薄膜晶体管结构层制备步骤、平坦层制备步骤、平坦层开槽步骤以及第二薄膜晶体管结构层制备步骤。本发明的技术效果在于,保护密集的金属走线,防止PI涂布精度差等情况。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:一基层,包括显示区及扇出区;一第一薄膜晶体管结构层,贴附于所述基层的一侧表面;一平坦层,贴附于所述第一薄膜晶体管结构层远离所述基层的一侧表面;一平坦层凹槽,下凹于所述平坦层的扇出区;以及一第二薄膜晶体管结构层,贴附于所述平坦层远离所述第一薄膜晶体管结构层的一侧表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811615770.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top