[发明专利]碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂和电解液在审

专利信息
申请号: 201811609416.8 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109457272A 公开(公告)日: 2019-03-12
发明(设计)人: 李再强;黄文涛 申请(专利权)人: 深圳市祺鑫天正环保科技有限公司
主分类号: C25C1/12 分类号: C25C1/12;C23F1/46
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 518125 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂和应用该稳定剂的电解液,其中,按质量份,所述碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂含有:络合剂,0.002‑0.05份;光亮剂,0.001‑0.02份;整平剂,0.001‑0.03份;以及表面处理剂,0.001‑0.01份。本发明的技术方案能够提升电解提出的铜品相。
搜索关键词: 稳定剂 电解铜 碱性蚀刻 电解液 再生 表面处理剂 光亮剂 络合剂 整平剂 质量份 电解 应用
【主权项】:
1.一种碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂,其特征在于,按质量份,所述碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂含有:络合剂,0.002‑0.05份;光亮剂,0.001‑0.02份;整平剂,0.001‑0.03份;以及表面处理剂,0.001‑0.01份。
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