[发明专利]碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂和电解液在审
| 申请号： | 201811609416.8 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109457272A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李再强;黄文涛 | 申请（专利权）人： | 深圳市祺鑫天正环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12;C23F1/46 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 518125 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 稳定剂 电解铜 碱性蚀刻 电解液 再生 表面处理剂 光亮剂 络合剂 整平剂 质量份 电解 应用 | ||
1.一种碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，按质量份，所述碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂含有：
络合剂，0.002-0.05份；
光亮剂，0.001-0.02份；
整平剂，0.001-0.03份；以及
表面处理剂，0.001-0.01份。
2.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，所述络合剂为聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇-聚丙二醇共聚物中的至少一种。
3.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，按质量份，所述稳定剂含有0.005-0.015份络合剂。
4.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，所述光亮剂为聚二硫二丙烷磺酸钠、硫脲、苯基二硫丙烷磺酸钠中的至少一种。
5.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，按质量份，所述稳定剂含有0.001-0.005份光亮剂。
6.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，所述整平剂为过黄染料、硫黄素T、辛基苯酚聚氧乙烯醚、壬基酚与环氧乙烷的聚合物中的至少一种。
7.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，按质量份，所述稳定剂含有0.001-0.002份整平剂。
8.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，所述表面处理剂为硅烷偶联剂、卞叉丙酮、丙酮中的至少一种。
9.如权利要求1所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，其特征在于，按质量份，所述稳定剂含有0.001-0.003份表面处理剂。
10.一种电解液，应用于碱性蚀刻再生电解铜，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂，按质量比计，所述碱性蚀刻再生电解铜的稳定剂的含量为所述电解液的0.005％-0.11％。
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