[发明专利]基板处理装置的调整方法

摘要

基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。

主权项

1.一种基板处理装置的调整方法，所述基板处理装置配置有多个描绘单元，所述描绘单元将在主扫描方向上一维地进行扫描的点光投射至在与所述主扫描方向交叉的副扫描方向上移动的基板上而在所述基板上描绘图案，所述多个描绘单元以使利用通过来自所述多个描绘单元各自的所述点光的扫描所形成的各描绘线而在所述基板上描绘出的图案彼此，伴随所述基板的移动而在所述主扫描方向上接合在一起的方式配置，所述基板处理装置的调整方法的特征在于，包括：扫描步骤，使具有用于支承所述基板的支承面和在沿着该支承面的预先决定的多个位置各自形成的基准标记、且能够使所述基板在所述副扫描方向上移动的支承构件以使所述基准标记来到由所述多个描绘单元各自描绘的所述描绘线上的方式进行移动，利用从所述多个描绘单元各自投射出的所述点光扫描所述基准标记；检测步骤，通过对因所述点光的投射而从所述支承构件的所述支承面产生的反射光进行光电检测的反射光检测部，获得与在所述点光扫描所述基准标记时产生的反射光的强度变化对应的检测信号，所述反射光检测部设于所述多个描绘单元的每一个，基于所述检测信号来求出与所述多个描绘线的配置状态或彼此的配置误差有关的调整信息，基于该调整信息来调整所述多个描绘单元各自描绘出的所述图案的描绘位置。