[发明专利]基板处理装置的调整方法

说明书

基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。

本发明申请是国际申请日为2015年3月31日、国际申请号为PCT/JP2015/060078、进入中国国家阶段的国家申请号为201580018364.5、发明名称为“基板处理装置、器件制造方法及基板处理装置的调整方法”的发明申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及基板处理装置及其调整方法、器件制造方法以及直接描绘曝光装置。

背景技术

目前，作为基板处理装置，已知有在片状介质(基板)上的规定位置进行描绘的制造装置(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载的制造装置中，对于在宽度方向上易伸缩的挠性长条片状基板检测对准标记，由此测量片状基板的伸缩，根据伸缩修正描绘位置(加工位置)。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2010-91990号公报

发明内容

在专利文献1的制造装置中，通过一边将基板沿搬运方向搬运，一边切换空间调制元件(DMD：Digital Micro mirror Device)，进行曝光，利用多个描绘单元在基板上描绘图案。在专利文献1的制造装置中，将通过多个描绘单元将基板的宽度方向上相邻的图案彼此接合曝光，但为了抑制接合曝光的误差，而反馈进行对测试曝光和显影所生成的在接合部的图案的位置误差的测量结果。但是，包含这种测试曝光、显影、测量等作业的反馈工序虽然也取决于其频率，但要暂时停止制造线，不仅使制品的生产性降低，还可能产生基板的浪费。

本发明的方案是鉴于上述课题而提出的，其目的在于，提供一种即使在使用多个描绘单元在基板的宽度方向上接合图案并进行曝光(描绘)的情况下，也能够降低图案彼此的接合误差，在基板上高精度且稳定地描绘大面积的图案的基板处理装置、器件制造方法及基板处理装置的调整方法。

根据本发明第一方案，提供一种基板处理装置，其具备：支承构件，其具有支承长条片状的基板的支承面，在所述支承面上的与所述基板的长度方向交叉的宽度方向上的多个位置设有基准标记；

搬运装置，其使被该支承构件支承的所述基板沿所述长度方向移动；描绘装置，其包括多个描绘单元，该多个描绘单元一边对由所述支承面支承的所述基板或所述支承面投射光束的点光，一边在比所述基板宽度方向的尺寸窄的范围进行扫描，能够沿着通过该扫描得到的描绘线来描绘规定图案，所述描绘装置以使得通过所述多个描绘单元的各描绘线在所述基板上描绘的图案彼此随着所述基板向长度方向的移动而在所述基板的宽度方向接合在一起的方式，将所述多个描绘单元沿所述基板的宽度方向配置；反射光检测部，其设在所述多个描绘单元的每一个上，对因投射所述光束的点光而从所述支承构件的支承面或所述基板反射的反射光进行检测；以及测量装置，其基于当所述支承构件的所述基准标记位于所述多个描绘单元各自描绘的所述描绘线上时从所述反射光检测部输出的信号，来测量所述多条描绘线的配置关系。

根据本发明第二方案，提供一种器件制造方法，使用本发明第一方面的基板处理装置在所述基板上形成所述图案。