[发明专利]一种离子刻蚀机反应腔清洗方法有效
| 申请号： | 201811588620.6 | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN111360004B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 何际福 | 申请（专利权）人： | 东莞新科技术研究开发有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/08 | 分类号： | B08B9/08;H01J37/32 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 523087 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种离子刻蚀机反应腔清洗方法，所述方法包括以下步骤：(1)向反应腔通入氩气和氧气，保持离子刻蚀机反应腔真空度300‑400帕，进行第一次射频辉光，射频的频率为：阴极：60‑120KHZ、阳极：26‑28MHZ；(2)继续向反应腔通入氩气和氧气，调节并保持反应室内压强为200‑400帕，进行第二次射频辉光，射频的频率为阴极：13.56MHZ、阳极：2‑3GHZ，然后终止作业，清洗完毕。本发明的方法清洗操作简单，利用离子刻蚀机自身的功能进行清洗，不需要拆卸离子刻蚀机，而且本发明的方法的清洗效果好，保证仪器正常运行的清洗维护周期长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 刻蚀 反应 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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