[发明专利]一种多芯片扇出型结构的封装方法及其结构在审
申请号: | 201811580860.1 | 申请日: | 2018-12-24 |
公开(公告)号: | CN109686697A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 张爱兵;李杨;高娜燕;吉勇;明雪飞 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第五十八研究所 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/538;H01L25/04 |
代理公司: | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 杨立秋 |
地址: | 214000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种多芯片扇出型结构的封装方法及其结构,属于半导体封装技术领域。包括如下步骤:首先,提供支撑架,所述支撑架的中间区域为镂空,边缘区域存在通孔;将支撑架与A芯片分次装片至带有热剥离膜的载具上;用包覆膜将支撑架与A芯片包覆,并去除热剥离膜和载具,形成新的晶圆载体;在新的晶圆载体的底部表面形成钝化层和布线层;将带有金属凸块的B芯片倒装到所述布线层上;通过包覆料对B芯片、金属凸块和布线层进行包覆保护;在新的晶圆载体顶部表面依次形成钝化层、再布线层、再钝化层;在再钝化层的开口上方生长焊球凸点,生成最终的封装体。 | ||
搜索关键词: | 支撑架 晶圆载体 布线层 金属凸块 热剥离膜 再钝化层 钝化层 多芯片 扇出型 包覆 载具 封装 半导体封装技术 边缘区域 底部表面 顶部表面 焊球凸点 再布线层 中间区域 镂空 包覆膜 封装体 芯片包 倒装 去除 通孔 装片 开口 芯片 生长 | ||
【主权项】:
1.一种多芯片扇出型结构的封装方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、提供支撑架(303),所述支撑架(303)的中间区域为镂空,边缘区域存在通孔;步骤二、将支撑架(303)与A芯片(302A)分次装片至带有热剥离膜(401)的载具(402)上;步骤三、用包覆膜(301)将支撑架(303)与A芯片(302A)包覆,并去除热剥离膜(401)和载具(402),形成新的晶圆载体;步骤四、在新的晶圆载体的底部表面形成钝化层(306)和布线层(307);步骤五、将带有金属凸块(308)的B芯片(302B)倒装到所述布线层(307)上;步骤六、通过包覆料(309)对B芯片(203B)、金属凸块(308)和布线层(307)进行包覆保护;步骤七、在新的晶圆载体顶部表面依次形成钝化层(310)、再布线层(311)、再钝化层(312);步骤八、在再钝化层(312)的开口上方生长焊球凸点(313),生成最终的封装体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造