[发明专利]一种PCB铜面氧化剂及其制备方法有效
| 申请号: | 201811569942.6 | 申请日: | 2018-12-21 |
| 公开(公告)号: | CN109355649B | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
| 发明(设计)人: | 孙颖睿 | 申请(专利权)人: | 苏州美吉纳纳米新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C22/52 | 分类号: | C23C22/52;C23C22/63 |
| 代理公司: | 绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙) 33285 | 代理人: | 郭云梅 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市苏州工业园*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种PCB铜面氧化剂,由组分A和组分B构成,组分A和组分B的质量比为2:1‑2,组分A由以下质量百分比的原料组成:双氧水30%‑50%、铜面抑制剂1%‑10%、表面活性剂1%‑5%、去离子水35%‑68%;组分B由以下质量百分比的原料组成:氨水30%‑50%、食盐9.5%‑19.9%、遮味剂0.1%‑0.5%、去离子水30%‑60%。本发明能够对线路板的铜面线路进行氧化,在线路板铜面线路生成一层致密的氧化络合物层,该氧化络合物层通过简单的酸洗就能去除,因此在黑孔化前利用该铜面氧化剂对线路板进行铜面氧化,黑孔化后则不需要进行微蚀,这样就不会腐蚀线路板铜底材,从而大大拓宽了黑孔化工艺的适用范围。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 pcb 氧化剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种PCB铜面氧化剂,其特征在于,由组分A和组分B构成,组分A和组分B的质量比为2:1‑2;所述组分A由以下质量百分比的原料组成:双氧水30%‑50%;铜面抑制剂1%‑10%;表面活性剂1%‑5%;去离子水38%‑68%;所述组分B由以下质量百分比的原料组成:氨水30%‑50%;食盐9.5%‑19.9%;遮味剂0.1%‑0.5%;去离子水30%‑60%。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
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