[发明专利]样品裂变径迹原位蚀刻观测方法及设备有效
| 申请号： | 201811465111.4 | 申请日： | 2018-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN109556939B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 申亚辉;李伟星;周月青 | 申请（专利权）人： | 中国科学院青藏高原研究所 |
| 主分类号： | G01N1/32 | 分类号： | G01N1/32;G01N21/00 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 满靖 |
| 地址： | 100101 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种样品核径迹原位蚀刻观测方法及设备。样品核径迹原位蚀刻观测方法包括步骤：将隔离物中包含的样品置于蚀刻液与显微镜物镜之间，在通过隔离物隔离显微镜物镜与蚀刻液或蚀刻液中的挥发气体来避免发生接触的同时，通过显微镜物镜对样品的核径迹蚀刻过程进行实时原位观测。本发明解决了现有蚀刻方法无法进行原位观察核径迹蚀刻过程的难题。 | ||
| 搜索关键词： | 样品 裂变 径迹 原位 蚀刻 观测 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种样品核径迹原位蚀刻观测方法，其特征在于，它包括步骤：将隔离物中包含的样品置于蚀刻液与显微镜物镜之间，在通过隔离物隔离显微镜物镜与蚀刻液或蚀刻液中的挥发气体来避免发生接触的同时，通过显微镜物镜对样品的核径迹蚀刻过程进行实时原位观测。
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