[发明专利]样品裂变径迹原位蚀刻观测方法及设备

权利要求书

1.一种样品裂变径迹原位蚀刻观测方法，其特征在于，它包括步骤：将隔离物中包含的样品置于蚀刻液与显微镜物镜之间，在通过隔离物隔离显微镜物镜与蚀刻液或蚀刻液中的挥发气体来避免发生接触的同时，通过显微镜物镜对样品的裂变径迹蚀刻过程进行实时原位观测，通过安装在显微镜物镜上的摄像头对样品的裂变径迹蚀刻过程直接进行实时记录，其中：样品的上下两面被抛光成光面，通过改变样品厚度使显微镜物镜的焦点透过具有透光性的样品而定位在样品将与蚀刻液接触的蚀刻面上；以设定时间间隔对所述摄像头记录的视频图像进行图像截取；统计每张图像中长度超过封闭径迹一半长度的单个半径迹，其中，蚀刻延缓部位至径迹末端长度接近封闭径迹一半长度，蚀刻延缓部位为裂变点；统计单个半径迹在设定时间段内的实际蚀刻长度，绘制出单个半径迹的蚀刻过程曲线；样品为天然矿物。

2.一种样品裂变径迹原位蚀刻观测设备，其特征在于：它包括用于注入并容纳蚀刻液的蚀刻液容器，蚀刻液容器上设有用于将样品粘结在上面的通孔，样品和蚀刻液容器做为隔离显微镜物镜与蚀刻液或蚀刻液中的挥发气体来避免发生接触的隔离物，显微镜物镜上安装有摄像头，摄像头用于对样品的裂变径迹蚀刻过程直接进行实时记录，其中：样品的上下两面被抛光成光面，且样品被抛光后的厚度具有使得显微镜物镜的焦点透过样品定位在样品与蚀刻液接触的蚀刻面上的透光性；以设定时间间隔对所述摄像头记录的视频图像进行图像截取；统计每张图像中长度超过封闭径迹一半长度的单个半径迹，其中，蚀刻延缓部位至径迹末端长度接近封闭径迹一半长度，蚀刻延缓部位为裂变点；统计单个半径迹在设定时间段内的实际蚀刻长度，绘制出单个半径迹的蚀刻过程曲线；样品为天然矿物。

3.如权利要求2所述的样品裂变径迹原位蚀刻观测设备，其特征在于：

所述样品位于所述通孔上面，或者所述样品位于所述通孔下面，或者所述样品位于所述通孔中。

4.如权利要求2或3所述的样品裂变径迹原位蚀刻观测设备，其特征在于：

所述蚀刻液容器包括单凹载玻片，单凹载玻片上用于容纳蚀刻液的凹坑上面设有盖玻片，盖玻片上设有用于将所述样品粘结在上面的所述通孔，盖玻片一侧与单凹载玻片边缘之间留有用于向凹坑内注入蚀刻液的间隙。

5.如权利要求4所述的样品裂变径迹原位蚀刻观测设备，其特征在于：

所述盖玻片粘结固定在所述单凹载玻片上。