[发明专利]一种量子点发光二极管的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811420343.8 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN111224018B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 聂志文;杨一行 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种量子点发光二极管的制备方法,所述量子点发光二极管为正型器件,方法包括步骤:提供阳极;在所述阳极表面形成空穴功能层;在所述空穴功能层表面形成一层短链配体化合物;在所述短链配体化合物表面形成量子点发光层。本发明不但可以获得稳定的量子点,且可以大大提高电子/空穴对在激子中的复合,提高器件效率。同时,本发明配体交换方法具有步骤简单、操作时间短、且能有效的避免对其他膜层的影响等优点。
搜索关键词: 一种 量子 发光二极管 制备 方法
【主权项】:
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