[发明专利]一种真空等离子镀膜平台在审
| 申请号： | 201811387070.1 | 申请日： | 2018-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN111206211A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 郝见辉 | 申请（专利权）人： | 天津鑫辉兴业金属制品有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 301815 天津市宝坻区经*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空等离子镀膜技术领域，尤其涉及一种真空等离子镀膜平台，解决现有技术中存在的需要单独进行清洗烘干，而后再进行镀膜室的镀膜作业，增加了工作的步骤，降低了工作的效率的缺点，包括支撑柱及镀膜箱，所述支撑柱的顶端设有作业平台，且作业平台上设置有作业架，所述作业架的顶端焊接有承载板，且承载板上设置有蓄水池，所述蓄水池的底部设置有清洁喷淋头，所述承载板的一端焊接有安装板，本发明通过蓄水池及清洁喷淋头可直接在滤板上对基体进行清洁，同时可通过一侧的伺服电机进行烘干作业，镀膜的前处理方便简单，且清洁水可通过水泵进行重复利用，节省了能源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 等离子 镀膜 平台 | ||
【主权项】：
暂无信息
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