[发明专利]一种真空等离子镀膜平台

权利要求书

1.一种真空等离子镀膜平台，包括支撑柱(1)及镀膜箱(9)，其特征在于，所述支撑柱(1)的顶端设有作业平台(2)，且作业平台(2)上设置有作业架(3)，所述作业架(3)的顶端焊接有承载板(6)，且承载板(6)上设置有蓄水池(4)，所述蓄水池(4)的底部设置有清洁喷淋头(5)，所述承载板(6)的一端焊接有安装板(12)，且安装板(12)上通过螺栓固定设置有伺服电机(121)，伺服电机(121)的输出端键连接有驱动轴(122)，驱动轴(122)的末端安装有扇叶(123)，所述安装板(12)的一侧焊接有防护板(11)，所述作业架(3)上设置有滤板(7)，所述作业平台(2)上设置有回收池(8)，且回收池(8)位于所述滤板(7)的底部，作业平台(2)的一侧设置有镀膜箱(9)，所述作业平台(2)上设有水泵(10)，且水泵(10)的一侧连通有进水管(101)，水泵(10)的另一侧连通有出水管(102)，所述进水管(101)的一端位于所述回收池(8)的内部，所述出水管(102)的一端位于所述蓄水池(4)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种真空等离子镀膜平台，其特征在于，所述清洁喷淋头(5)的一端位于所述蓄水池(4)的内部，且清洁喷淋头(5)的另一端位于所述承载板(6)的底部，清洁喷淋头(5)的底部开设有3个喷淋口。

3.根据权利要求1所述的一种真空等离子镀膜平台，其特征在于，所述滤板(7)位于所述清洁喷淋头(5)的底部，且滤板(7)上开设有滤孔。

4.根据权利要求1所述的一种真空等离子镀膜平台，其特征在于，所述进水管(101)上设置有第一限位块，且第一限位块位于所述回收池(8)的内部，所述出水管(102)上设置有第二限位块，且第二限位块位于所述蓄水池(4)的内部。

5.根据权利要求1所述的一种真空等离子镀膜平台，其特征在于，所述防护板(11)为倾斜设置，且防护板(11)的倾斜角度为30-45°。

6.根据权利要求1所述的一种真空等离子镀膜平台，其特征在于，所述作业架(3)上开设有辅助槽孔，且所述进水管(101)的一端穿过所述辅助槽孔延伸至所述回收池(8)的内部。