[发明专利]一种真空等离子镀膜平台在审
申请号: | 201811387070.1 | 申请日: | 2018-11-21 |
公开(公告)号: | CN111206211A | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 郝见辉 | 申请(专利权)人: | 天津鑫辉兴业金属制品有限公司 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 301815 天津市宝坻区经*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 等离子 镀膜 平台 | ||
本发明涉及真空等离子镀膜技术领域,尤其涉及一种真空等离子镀膜平台,解决现有技术中存在的需要单独进行清洗烘干,而后再进行镀膜室的镀膜作业,增加了工作的步骤,降低了工作的效率的缺点,包括支撑柱及镀膜箱,所述支撑柱的顶端设有作业平台,且作业平台上设置有作业架,所述作业架的顶端焊接有承载板,且承载板上设置有蓄水池,所述蓄水池的底部设置有清洁喷淋头,所述承载板的一端焊接有安装板,本发明通过蓄水池及清洁喷淋头可直接在滤板上对基体进行清洁,同时可通过一侧的伺服电机进行烘干作业,镀膜的前处理方便简单,且清洁水可通过水泵进行重复利用,节省了能源。
技术领域
本发明涉及真空等离子镀膜技术领域,尤其涉及一种真空等离子镀膜平台。
背景技术
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
在镀膜时,将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。而如今的真空等离子镀膜,需要单独进行清洗烘干,而后再进行镀膜室的镀膜作业,增加了工作的步骤,降低了工作的效率。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的需要单独进行清洗烘干,而后再进行镀膜室的镀膜作业,增加了工作的步骤,降低了工作的效率的缺点,而提出的一种真空等离子镀膜平台。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种真空等离子镀膜平台,包括支撑柱及镀膜箱,所述支撑柱的顶端设有作业平台,且作业平台上设置有作业架,所述作业架的顶端焊接有承载板,且承载板上设置有蓄水池,所述蓄水池的底部设置有清洁喷淋头,所述承载板的一端焊接有安装板,且安装板上通过螺栓固定设置有伺服电机,伺服电机的输出端键连接有驱动轴,驱动轴的末端安装有扇叶,所述安装板的一侧焊接有防护板,所述作业架上设置有滤板,所述作业平台上设置有回收池,且回收池位于所述滤板的底部,作业平台的一侧设置有镀膜箱,所述作业平台上设有水泵,且水泵的一侧连通有进水管,水泵的另一侧连通有出水管,所述进水管的一端位于所述回收池的内部,所述出水管的一端位于所述蓄水池的内部。
优选的,所述清洁喷淋头的一端位于所述蓄水池的内部,且清洁喷淋头的另一端位于所述承载板的底部,清洁喷淋头的底部开设有3个喷淋口。
优选的,所述滤板位于所述清洁喷淋头的底部,且滤板上开设有滤孔。
优选的,所述进水管上设置有第一限位块,且第一限位块位于所述回收池的内部,所述出水管上设置有第二限位块,且第二限位块位于所述蓄水池的内部。
优选的,所述防护板为倾斜设置,且防护板的倾斜角度为30-45°。
优选的,所述作业架上开设有辅助槽孔,且所述进水管的一端穿过所述辅助槽孔延伸至所述回收池的内部。
本发明的有益效果是:
1、本发明在作业平台上设有作业架,作业架上设置有承载板,并在承载板上设有蓄水池,在工作时,可将基体放置在滤板上,而后通过蓄水池,进一步经过清洁喷淋头进行喷淋清洗,清洁水在滤板上清洁过后,会直接落入到回收池内,留待回收再次使用。
2、本发明在承载板的一侧设有安装板,其上设有伺服电机,伺服电机输出端设有扇叶,在清洁基体完毕后,可通过伺服电机带动扇叶进行干燥作业,且安装板的一侧设有防护板,避免伺服电机及扇叶被清洁喷淋头影响。
综上所述,通过蓄水池及清洁喷淋头可直接在滤板上对基体进行清洁,同时可通过一侧的伺服电机进行烘干作业,镀膜的前处理方便简单,且清洁水可通过水泵进行重复利用,节省了能源。
附图说明
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