[发明专利]OLED触控显示屏的制作方法

摘要

本发明提供一种OLED触控显示屏的制作方法，依次在衬底基板上形成TFT层、OLED层及触控层，相对于现有技术，在制作触控层时，在沉积形成第一绝缘层之后和沉积形成桥点层之前不对第一绝缘层进行蚀刻，而在沉积形成第二绝缘层之后再通过两种蚀刻气体的配合使用来对第一绝缘层和第二绝缘层一同进行干法蚀刻，实现触控层中两种不同深度接触孔的同制程制作，有效降低了湿蚀刻制程对OLED的侵蚀，简化了生产工艺，提升了设备生产能力，同时还可以实现对源漏电极层中触控引线和绑定垫的预保护作用，避免过蚀或者氧化引起的功能失效。

主权项

1.一种OLED触控显示屏的制作方法，所述OLED触控显示屏包括位于中部的像素区及位于所述像素区外侧的绑定区，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤S1、提供一衬底基板(90)，在所述衬底基板(90)上依次形成TFT层(10)及OLED发光层(20)；步骤S2、在所述OLED发光层(20)上沉积形成第一绝缘层(31)；步骤S3、在所述第一绝缘层(31)上沉积并图案化形成桥点层(32)；步骤S4、在所述桥点层(32)及第一绝缘层(31)上沉积形成第二绝缘层(33)，在所述第二绝缘层(33)上涂布光阻材料，对该光阻材料进行曝光、显影，得到光阻层(70)；步骤S5、以所述光阻层(70)为遮蔽层，对所述第一绝缘层(31)和第二绝缘层(33)进行干法蚀刻，以在像素区内对应于所述桥点层(32)上方形成贯穿第二绝缘层(33)的第一接触孔(301)及在所述绑定区内形成贯穿所述第一绝缘层(31)和第二绝缘层(33)的第二接触孔(302)，该干法蚀刻过程具体为，首先通过第一蚀刻气体对所述第一绝缘层(31)和第二绝缘层(33)进行蚀刻至形成第一接触孔(301)或者所述光阻层(70)所露出的第二绝缘层(33)的厚度小于然后通过第二蚀刻气体对所述第一绝缘层(31)和第二绝缘层(33)继续进行蚀刻至第一接触孔(301)和第二接触孔(302)均形成，其中，所述第二蚀刻气体对第一绝缘层(31)和桥点层(32)的蚀刻选择比大于5；步骤S6、在所述第二绝缘层(33)上沉积并图案化形成电极线路层(34)；步骤S7、在所述电极线路层(34)及第二绝缘层(33)上形成保护层(35)。