[发明专利]一种掩模板及其制作方法在审
| 申请号： | 201811360960.3 | 申请日： | 2018-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN109491191A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 叶小龙;黄执祥 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 彭家恩;郭燕 |
| 地址： | 518104 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种掩模板及其制作方法，掩模板包括：基板和阻光层；阻光层铺设在基板上；阻光层上排布有多个透光通孔，所述透光通孔沿垂直于阻光层的方向贯穿阻光层，透光通孔的孔径a为：0.8um≤a≤4um。透光通孔的孔径小于对准式曝光系统的最小分辨率，进行曝光时，透过通孔的光线不再以直射的方式照射到产品原材料上，而是以光衍射的辐射能量的形式存在于产品原材料表面的感光材料内，从而起到改变阻光层的光学透过率的效果，阻光层的透过率可以改变为0(不透光)至100％(透光)间的任意值，使得阻光层的不同部位可以具有不同的光学透过率。 | ||
| 搜索关键词： | 阻光层 透光通孔 掩模板 产品原材料 光学透过率 基板 感光材料 最小分辨率 辐射能量 曝光系统 不透光 对准式 光衍射 透过率 透光 直射 排布 通孔 制作 照射 垂直 铺设 曝光 贯穿 申请 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板，其特征在于，包括：基板和阻光层；所述阻光层铺设在基板上；所述阻光层上排布有多个透光通孔，所述透光通孔沿垂直于阻光层的方向贯穿阻光层，所述透光通孔的孔径a为：0.8um≤a≤4um。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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