[发明专利]图案描绘方法、光掩模和显示装置用器件的制造方法

摘要

本发明提供图案描绘方法、光掩模和显示装置用器件的制造方法。将具有符合设计的CD精度的图案转印在被转印体上。本发明提供图案描绘方法及其关联技术，通过根据规定的设计图案数据在光掩模基板上进行描绘而形成用于制造显示装置用器件的具有转印用图案的光掩模，其中，该图案描绘方法包含以下工序：束强度校正映射图形成工序，使用在光掩模基板上利用能量束进行描绘的描绘装置，在由于显示装置用器件的制造工序而产生针对设计值的CD错误时，根据预先掌握的包含CD错误的位置和错误量的、CD错误的产生倾向信息，形成用于校正CD错误的束强度校正映射图；以及描绘工序，将设计图案数据与束强度校正映射图一起使用，用描绘装置进行描绘。

主权项

1.一种图案描绘方法，其通过根据规定的设计图案数据在光掩模基板上进行描绘，形成用于制造显示装置用器件的具有转印用图案的光掩模，该图案描绘方法的特征在于，使用利用能量束在所述光掩模基板上进行描绘的描绘装置，在因所述显示装置用器件的制造工序而产生针对设计值的CD错误时，包含以下工序：束强度校正映射图形成工序，根据预先掌握的包含所述CD错误的位置和错误量的所述CD错误的产生倾向信息而形成用于校正所述CD错误的束强度校正映射图；以及描绘工序，利用所述描绘装置，一起使用所述设计图案数据和所述束强度校正映射图来进行描绘。