[发明专利]图案描绘方法、光掩模和显示装置用器件的制造方法

权利要求书

1.一种图案描绘方法，其通过根据规定的设计图案数据在光掩模基板上进行描绘，形成用于制造显示装置用器件的具有转印用图案的光掩模，该图案描绘方法的特征在于，

使用利用能量束在所述光掩模基板上进行描绘的描绘装置，

在因所述显示装置用器件的制造工序而产生CD错误时，其中，所述CD错误是通过使用曝光装置对所述光掩模进行曝光而形成的显示面板基板上的图案的CD与基于设计值的目标CD之间的差异，包含以下工序：

束强度校正映射图形成工序，根据预先掌握的包含所述CD错误的位置和错误量的所述CD错误的产生倾向信息而形成用于校正所述CD错误的束强度校正映射图；以及

描绘工序，利用所述描绘装置，一起使用所述设计图案数据和所述束强度校正映射图来进行描绘。

2.根据权利要求1所述的图案描绘方法，其特征在于，

所述显示装置用器件的制造工序包含曝光工序，在该曝光工序中，利用曝光装置对所述光掩模进行曝光，

所述CD错误是因所述曝光装置的曝光条件而引起的错误。

3.根据权利要求2所述的图案描绘方法，其特征在于，

所述曝光装置是应用了投影曝光方式的曝光装置，在该投影曝光方式中，通过扫描多个透镜而将光掩模的转印用图案转印到显示面板基板上。

4.根据权利要求2所述的图案描绘方法，其特征在于，

所述曝光装置应用了接近式曝光方式。

5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的图案描绘方法，其特征在于，

所述转印用图案包含由多个单位图案规则地排列而成的重复图案。

6.根据权利要求1～4中的任意一项所述的图案描绘方法，其特征在于，

在所述描绘工序中进行多重描绘。

7.一种光掩模的制造方法，其中，

该光掩模的制造方法包含权利要求1～6中的任意一项所述的图案描绘方法。

8.一种显示装置用器件的制造方法，其包含以下工序：

准备利用权利要求7所述的制造方法而制造出的光掩模；以及

利用应用投影曝光方式的曝光装置将所述转印用图案转印到显示面板基板上，在该投影曝光方式中，通过扫描多个透镜而将光掩模的转印用图案转印到显示面板基板上。

9.一种显示装置用器件的制造方法，其包含以下工序：

准备利用权利要求7所述的制造方法而制造出的光掩模；以及

利用应用接近式曝光方式的曝光装置将所述转印用图案转印到显示面板基板上。