[发明专利]具有嵌入式清洗模块的光刻系统在审
| 申请号： | 201811222288.1 | 申请日： | 2014-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN109375471A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 简上杰;陈政宏;吴瑞庆;陈家桢;谢弘璋;吕启纶;余家豪;张世明;严涛南 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻系统。该光刻系统包括配置为使用固定在掩模台上的掩模实施光刻曝光工艺的曝光模块；以及集成在曝光模块中并且设计为使用吸附机构清洗掩模和掩模台中的至少一个的清洗模块。本发明还提供了具有嵌入式清洗模块的光刻系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻系统 清洗模块 曝光模块 嵌入式 掩模 光刻曝光 清洗掩模 吸附机构 掩模台 配置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻系统，包括：曝光模块，配置为使用固定在掩模台上的掩模实施光刻曝光工艺；以及清洗模块，集成在所述曝光模块中，并且所述清洗模块被设计成使用具有吸附机构的清洗结构清洗所述掩模和所述掩模台中的至少一个；其中，所述清洗结构中包括载体衬底和附接至所述载体衬底的吸附对象，所述吸附对象包括选自由胶带、多糖、具有‑OH键和高化学极性的聚乙烯醇(PVA)、以及具有表面活性剂的天然乳胶组成的组中的粘性材料并且所述吸附对象被设计为其表面轮廓响应于目标对象的具有局部凸块的表面轮廓而变化且基本上与所述目标对象的表面轮廓互补；以及所述载体衬底是具有所述掩模的形状和尺寸的掩模衬底。
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