[发明专利]一种干式清洗装置及清洗方法在审
| 申请号： | 201811203296.1 | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN109290287A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 袁文豪;李谋鹏 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;B08B7/00;B08B11/04 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;贾珍珠 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种干式清洗装置，用于在移动过程中对玻璃基板表面进行清洗，干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构和第二清洗机构，第一清洗机构用于清除玻璃基板上的第一异物，第二清洗机构用于清除玻璃基板上的第二异物，其中，第一异物的直径大于第二异物的直径。本发明还公开了一种采用上述所述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板进行清洗的方法。本发明的一种干式清洗装置通过第一清洗机构和第二清洗机构的设置，使得在其移动过程中可同时对玻璃基板表明的颗粒状异物、有机物、细菌类异物同时进行清除，避免了异物阻挡刻蚀，提升了清洗效果和产品良率；且其结构简单，便于操作，可在较小投资的情况下获得较大收益。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗机构 干式清洗装置 异物 玻璃基板 清洗 移动过程 玻璃基板表面 颗粒状异物 液晶显示器 产品良率 清洗效果 相邻设置 移动路径 异物阻挡 有机物 刻蚀 细菌 收益 投资 | ||
【主权项】：
1.一种干式清洗装置，其特征在于，用于在移动过程中对玻璃基板(A)表面进行清洗，所述干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构(1)和第二清洗机构(2)，所述第一清洗机构(1)用于清除玻璃基板(A)上的第一异物(a)，所述第二清洗机构(2)用于清除玻璃基板(A)上的第二异物(b)，其中，所述第一异物(a)的直径大于所述第二异物(b)的直径。
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