[发明专利]一种干式清洗装置及清洗方法

说明书

本发明公开了一种干式清洗装置，用于在移动过程中对玻璃基板表面进行清洗，干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构和第二清洗机构，第一清洗机构用于清除玻璃基板上的第一异物，第二清洗机构用于清除玻璃基板上的第二异物，其中，第一异物的直径大于第二异物的直径。本发明还公开了一种采用上述所述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板进行清洗的方法。本发明的一种干式清洗装置通过第一清洗机构和第二清洗机构的设置，使得在其移动过程中可同时对玻璃基板表明的颗粒状异物、有机物、细菌类异物同时进行清除，避免了异物阻挡刻蚀，提升了清洗效果和产品良率；且其结构简单，便于操作，可在较小投资的情况下获得较大收益。

技术领域

本发明涉及一种清洗装置，更具体的说，涉及一种干式清洗装置及采用该清洗装置进行清洗的清洗方法。

背景技术

在液晶显示器的生产过程中多次涉及清洗工艺，整个制备工艺中清洗工艺的工作量占总工作量的30％～40％，而且随着液晶显示技术的不断进步，对工件的表面洁净度要求极高。

目前的清洗工艺主要涉及两种，一种是干式洗净技术，一种是湿式洗净技术。但是湿式清洗技术由于清洗过程中需要用到大量的纯水和有毒化学溶剂，易造成作业人员危害及环境污染的问题，所需要的高纯度化学药品及去离子水费用昂贵，也形成废水处理及安全问题，因此，现多采用干式法进行清洗，但是目前所使用的干法清洗设备只能处理直径≥1um的颗粒物，对1um以下颗粒或者有机物、细菌类异物无法处理，影响产品良率。

发明内容

鉴于现有技术存在的缺陷，本发明提供了一种干式清洁装置，以实现清洗过程中同时处理表面颗粒和有机物的目的。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

本发明的目的在于提供了一种干式清洗装置，用于在移动过程中对玻璃基板表面进行清洗，所述干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构和第二清洗机构，所述第一清洗机构用于清除玻璃基板上的第一异物，所述第二清洗机构用于清除玻璃基板上的第二异物，其中，所述第一异物的直径大于所述第二异物的直径。

优选地，所述第二清洗机构设有两个，两个所述第二清洗机构沿所述清洗装置移动路径相邻设于所述第一清洗机构的两侧。

优选地，所述第一异物的直径大于等于1μm。

优选地，所述第一清洗机构为超声波清洗机构，所述第二清洗机构为EUV清洗机构或大气压等离子清洗机构。

优选地，所述EUV清洗机构包括EUV灯管及罩设于所述EUV灯管上的罩体，所述罩体上设有一照射口，所述照射口朝向玻璃基板表面。

优选地，所述第一清洗机构包括壳体、形成于所述壳体内且通有高压气流的超声腔、设于所述超声腔内的超声波发生器及贯通所述超声腔的喷道，其中，所述喷道口朝向玻璃基板表面。

优选地，所述第一清洗机构还包括形成于所述壳体内的吸附腔及贯通所述吸附腔的吸附道，其中，所述吸附道口朝向所述玻璃基板表面，且所述吸附道靠近所述喷道设置。

优选地，所述第一清洗机构还包括换气机构，所述换气机构通过第一气道与所述吸附腔相通，用于抽取所述吸附腔内的空气以形成真空腔吸走异物；所述换气机构还通过第二气道与所述超声腔相通，以向所述超声腔内通入高压气流。

优选地，所述第一清洗机构还包括设于所述第一气道上的过滤器。

本发明的另一目的在于提供一种采用上述所述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板进行清洗的方法。

与现有技术相比，本发明的一种干式清洗装置通过第一清洗机构和第二清洗机构的设置，使得在其移动过程中可同时对玻璃基板表明的颗粒状异物、有机物、细菌类异物同时进行清除，避免了异物阻挡刻蚀，提升了清洗效果和产品良率；且其结构简单，便于操作，可在较小投资的情况下获得较大收益。