[发明专利]一种干式清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种干式清洗装置，其特征在于，用于在移动过程中对玻璃基板(A)表面进行清洗，所述干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构(1)和第二清洗机构(2)，所述第一清洗机构(1)用于清除玻璃基板(A)上的第一异物(a)，所述第二清洗机构(2)用于清除玻璃基板(A)上的第二异物(b)，其中，所述第一异物(a)的直径大于所述第二异物(b)的直径。

2.根据权利要1所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第二清洗机构(2)设有两个，两个所述第二清洗机构(2)沿所述清洗装置移动路径相邻设于所述第一清洗机构(1)的两侧。

3.根据权利要1所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一异物(a)的直径大于等于1μm。

4.根据权利要求1～3任一所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)为超声波清洗机构，所述第二清洗机构(2)为EUV清洗机构或大气压等离子清洗机构。

5.根据权利要求4所述的干式清洗装置，其特征在于，所述EUV清洗机构包括EUV灯管(22)及罩设于所述EUV灯管(22)上的罩体(21)，所述罩体(21)上设有一照射口(23)，所述照射口(23)朝向玻璃基板(A)表面。

6.根据权利要求4所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)包括壳体(10)、形成于所述壳体(10)内且通有高压气流的超声腔(11)、设于所述超声腔(11)内的超声波发生器(111)及贯通所述超声腔(11)的喷道(112)，其中，所述喷道(112)口朝向玻璃基板(A)表面。

7.根据权利要求6所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)还包括形成于所述壳体(10)内的吸附腔(12)及贯通所述吸附腔(12)的吸附道(121)，其中，所述吸附道(121)口朝向所述玻璃基板(A)表面，且所述吸附道(121)靠近所述喷道(112)设置。

8.根据权利要求7所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)还包括换气机构(13)，所述换气机构(13)通过第一气道(14)与所述吸附腔(12)相通，用于抽取所述吸附腔(12)内的空气以形成真空腔吸走异物；所述换气机构(13)还通过第二气道(15)与所述超声腔(11)相通，以向所述超声腔(11)内通入高压气流。

9.根据权利要求8所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)还包括设于所述第一气道(14)上的过滤器(16)。

10.一种采用如权利要求1～9任一所述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板(A)进行清洗的方法。