[发明专利]薄膜形成方法及薄膜形成装置

摘要

本发明提供一种形成具有良好的电特性的包含氧化铟的薄膜的薄膜形成方法及薄膜形成装置。在清洗后的基板的表面上涂布包含氧化铟前驱体的涂布液，从而在基板上形成涂布膜。一边对该基板进行冷却，一边在大气环境中向涂布膜照射紫外线，从而使氧化铟前驱体光学活化。另外，对紫外线照射处理后的基板进行加热，从而使氧化铟前驱体热活化。对基板进行冷却，不对涂布膜进行加热而向该涂布膜照射紫外线，从而能够形成具有良好的电特性的包含氧化铟的薄膜。

主权项

1.一种薄膜形成方法，用于形成包含氧化铟的薄膜，其特征在于，所述薄膜形成方法包括：涂布工序，将含有氧化铟前驱体的涂布液涂布在基板上，从而在所述基板上形成涂布膜；光活化工序，一边对所述基板进行冷却，一边向所述涂布膜照射紫外线，从而使所述氧化铟前驱体光学活化；以及热活化工序，在所述光活化工序之后，对所述基板进行加热，从而使所述氧化铟前驱体热活化。