[发明专利]光刻设备、抗气流扰动的方法及装置有效
| 申请号： | 201811014164.4 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN110874021B | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 刘伟;刘剑 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光刻设备、抗气流扰动的方法及装置。抗气流扰动的装置包括：抗气流扰动组件，位于光栅尺测量组件远离运动台的一侧，用于当运动台相对光栅尺测量组件运动时，执行所述抗气流扰动操作。本发明提供的光刻设备、抗气流扰动的方法及装置中，光栅尺测量组件的测量精度较高，最终形成的半导体器件的性能较好。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 气流 扰动 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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