[发明专利]集成扇出封装件及其形成方法有效
申请号: | 201810996129.0 | 申请日: | 2018-08-29 |
公开(公告)号: | CN109786340B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 裴浩然;陈威宇;郑佳申;曹智强;陈正庭;张家纶;林志伟;林修任;谢静华;刘重希 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/498 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明的实施例提供了一种半导体结构及其形成方法。一种半导体结构包括嵌入在模制材料中的管芯,管芯具有位于第一侧上的管芯连接件;位于管芯的第一侧处的第一再分布结构,第一再分布结构通过管芯连接件电连接至管芯;位于管芯的与第一侧相对的第二侧处的第二再分布结构;以及位于第二再分布结构中的导热材料,管芯介于导热材料和第一再分布结构之间,导热材料延伸穿过第二再分布结构,并且导热材料是电隔离的。 | ||
搜索关键词: | 集成 封装 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:管芯,嵌入在模制材料中,所述管芯具有位于第一侧上的管芯连接件;第一再分布结构,位于所述管芯的第一侧处,所述第一再分布结构通过所述管芯连接件电连接至所述管芯;第二再分布结构,位于所述管芯的与所述第一侧相对的第二侧处;以及导热材料,位于所述第二再分布结构中,所述管芯插接在所述导热材料和所述第一再分布结构之间,所述导热材料延伸穿过所述第二再分布结构,并且所述导热材料是电隔离的。
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