[发明专利]集成扇出封装件及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201810996129.0 申请日: 2018-08-29
公开(公告)号: CN109786340B 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 裴浩然;陈威宇;郑佳申;曹智强;陈正庭;张家纶;林志伟;林修任;谢静华;刘重希 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/498
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的实施例提供了一种半导体结构及其形成方法。一种半导体结构包括嵌入在模制材料中的管芯,管芯具有位于第一侧上的管芯连接件;位于管芯的第一侧处的第一再分布结构,第一再分布结构通过管芯连接件电连接至管芯;位于管芯的与第一侧相对的第二侧处的第二再分布结构;以及位于第二再分布结构中的导热材料,管芯介于导热材料和第一再分布结构之间,导热材料延伸穿过第二再分布结构,并且导热材料是电隔离的。
搜索关键词: 集成 封装 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:管芯,嵌入在模制材料中,所述管芯具有位于第一侧上的管芯连接件;第一再分布结构,位于所述管芯的第一侧处,所述第一再分布结构通过所述管芯连接件电连接至所述管芯;第二再分布结构,位于所述管芯的与所述第一侧相对的第二侧处;以及导热材料,位于所述第二再分布结构中,所述管芯插接在所述导热材料和所述第一再分布结构之间,所述导热材料延伸穿过所述第二再分布结构,并且所述导热材料是电隔离的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810996129.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top