[发明专利]掩膜结构有效
| 申请号： | 201810941863.7 | 申请日： | 2018-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN108611600B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 戚海平 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 阚梓瑄;王卫忠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提出一种掩膜结构，包括掩膜框架及固定于掩膜框架表面的对位掩膜板。其中，掩膜框架的表面开设有槽孔。槽孔的孔口设有盖片，盖片封闭槽孔且与对位掩膜板相贴合。盖片界定第一贯通区域，第一贯通区域内开设有第一对位通孔和多个第一辅助通孔。对位掩膜板在对应于槽孔孔口的第二贯通区域内开设有第二对位通孔和多个第二辅助通孔，第二对位通孔与第一对位通孔相贯通，各第二辅助通孔在盖片上的投影与各第一辅助通孔均不重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 膜结构 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜结构，包括掩膜框架及固定于所述掩膜框架表面的对位掩膜板；其特征在于：所述掩膜框架的表面开设有槽孔；所述槽孔的孔口设有盖片，所述盖片封闭所述槽孔且与所述对位掩膜板相贴合；所述盖片界定第一贯通区域，所述第一贯通区域内开设有第一对位通孔和多个第一辅助通孔；所述对位掩膜板在对应于所述槽孔孔口的第二贯通区域内开设有第二对位通孔和多个第二辅助通孔，所述第二对位通孔与所述第一对位通孔相贯通。
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