[发明专利]掩膜结构有效
| 申请号： | 201810941863.7 | 申请日： | 2018-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN108611600B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 戚海平 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 阚梓瑄;王卫忠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 膜结构 | ||
1.一种掩膜结构，包括掩膜框架及固定于所述掩膜框架表面的对位掩膜板；
其特征在于：
所述掩膜框架的表面开设有槽孔；
所述槽孔的孔口设有盖片，所述盖片封闭所述槽孔且与所述对位掩膜板相贴合；
所述盖片界定第一贯通区域，所述第一贯通区域内开设有第一对位通孔和多个第一辅助通孔，所述第一对位通孔偏离于所述槽孔的中心线轨迹；
所述对位掩膜板在对应于所述槽孔孔口的第二贯通区域内开设有第二对位通孔和多个第二辅助通孔，所述第二对位通孔与所述第一对位通孔相贯通，各所述第二辅助通孔在所述盖片上的投影与各所述第一辅助通孔在所述盖片上的投影均不重叠。
2.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述槽孔包括第一孔道和第二孔道，所述第一孔道开口于所述掩膜框架的表面且呈柱型结构，所述第二孔道连通于所述第一孔道且呈锥型结构。
3.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述槽孔的孔径为5mm～7mm，且所述槽孔的孔深为2mm～4mm。
4.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述盖片的材质与所述掩膜框架相同；和/或，所述盖片的厚度为10μm～50μm。
5.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一对位通孔的孔径大于所述第一辅助通孔的孔径。
6.根据权利要求5所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一对位通孔的孔径为0.5mm～0.7mm，所述第一辅助通孔的孔径为0.1mm～0.5mm。
7.根据权利要求6所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一对位通孔与相距最近的所述第一辅助通孔的孔壁之间的最小距离为0.1mm～0.25mm。
8.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述第二对位通孔的孔径大于所述第二辅助通孔的孔径。
9.根据权利要求8所述的掩膜结构，其特征在于，所述第二对位通孔的孔径为0.4mm～0.6mm，所述第二辅助通孔的孔径为0.1mm～0.5mm。
10.根据权利要求9所述的掩膜结构，其特征在于，所述第二对位通孔与相距最近的所述第二辅助通孔的孔壁之间的最小距离为0.1mm～0.25mm。
11.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一对位通孔的孔径大于所述第二对位通孔的孔径。
12.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一辅助通孔的孔径大于所述第二辅助通孔的孔径。
13.根据权利要求12所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一辅助通孔的孔径为所述第二辅助通孔的孔径的1.2倍～3.0倍。
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