[发明专利]低辐射镀膜玻璃及其制备方法在审
| 申请号： | 201810938323.3 | 申请日： | 2018-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN108726891A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 黄亮;万军鹏;谭军毅;林彬 | 申请（专利权）人： | 北京汉能光伏投资有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 北京智晨知识产权代理有限公司 11584 | 代理人： | 张婧 |
| 地址： | 101400 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于太阳能技术领域，公开了一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。本发明所提供的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底以及位于所述玻璃基底至少一个表面的膜堆，所述膜堆包括n组层叠的膜系、和位于所述n组膜系的最外层膜上的Si3N4膜；所述每组膜系从靠近所述玻璃基底向远离所述玻璃基底的方向依次包括：SiO2层，SiONx层，Si3N4层，SiONx层，SiO2层，SiONx层。本发明所提供的低辐射镀膜玻璃在对特定波段光波产生低辐射作用的同时，具备较高的可见光透过率以及较佳的膜层稳定性，不但适用于建筑门、窗和幕墙中，还可应用于光伏组件中。 | ||
| 搜索关键词： | 低辐射镀膜玻璃 玻璃基 膜系 膜堆 制备 太阳能技术领域 可见光透过率 膜层稳定性 光波产生 光伏组件 最外层膜 低辐射 建筑门 波段 幕墙 应用 | ||
【主权项】：
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基底以及位于所述玻璃基底至少一个表面的膜堆，所述膜堆包括n组层叠的膜系、和位于所述n组膜系的最外层膜上的Si3N4膜；所述每组膜系从靠近所述玻璃基底向远离所述玻璃基底的方向依次包括：SiO2层，SiONx层，Si3N4层，SiONx层，SiO2层，和SiONx层。
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