[发明专利]低辐射镀膜玻璃及其制备方法

说明书

本发明属于太阳能技术领域，公开了一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。本发明所提供的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底以及位于所述玻璃基底至少一个表面的膜堆，所述膜堆包括n组层叠的膜系、和位于所述n组膜系的最外层膜上的Si₃N₄膜；所述每组膜系从靠近所述玻璃基底向远离所述玻璃基底的方向依次包括：SiO₂层，SiON_x层，Si₃N₄层，SiON_x层，SiO₂层，SiON_x层。本发明所提供的低辐射镀膜玻璃在对特定波段光波产生低辐射作用的同时，具备较高的可见光透过率以及较佳的膜层稳定性，不但适用于建筑门、窗和幕墙中，还可应用于光伏组件中。

技术领域

本发明属于太阳能技术领域，特别涉及一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

低辐射玻璃也称Low-E玻璃，其采用镀膜技术，在玻璃表面镀上由多层金属或其他化合物组成的膜系，从而解决玻璃隔热性能与采光性能的矛盾。Low-E玻璃可同时具有良好的隔热性能和采光性能，并解决“光污染”的问题。

目前生产Low-E玻璃的技术主要是镀银法和镀制干涉膜法。其中，镀银法是在玻璃表面依次镀制第一金属/非金属氧化物保护层、纳米级别的银层和第二金属/非金属氧化物保护层，利用银对中远红外光线高反射的作用降低玻璃的辐射率。但银的价格昂贵，导致Low-E的生产成本极高；且银层本身不透光，所制得的Low-E玻璃对可见光的透过率仅在70％左右，影响采光效果。

镀制干涉膜法是在玻璃基板上交替镀制高折射率-和低折射率交替的多层膜结构，基于膜层与膜层之间发生的干涉现象，通过合理设置膜层的结构，使其对中远红外光线进行反射，从而获得隔热保温的作用。现有技术中常用的膜层包括MgF₂、SiO₂、CEF₃、CeO₂、ZnS等。然而，在多层干涉膜的设计和生产中常会出现堆垛层错的质量问题；另外，金属氧化物和非金属氧化物搭配形成膜层的过程中，由于膜层间和膜层与玻璃之间很难形成共价化学键，导致Low-E玻璃经长时间户外使用后发生膜层脱落，使用寿命较短。

发明内容

本发明的目的在于提供一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。该种低辐射镀膜玻璃不但可对特定波段光波产生低辐射作用，且具备较高的可见光透过率以及较佳的膜层稳定性。

为解决上述技术问题，本发明的一技术方案提供的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底以及位于所述玻璃基底至少一个表面的膜堆，所述膜堆包括n组层叠的膜系，和位于所述n组膜系的最外层膜上的Si₃N₄膜；所述每组膜系从靠近所述玻璃基底向远离所述玻璃基底的方向依次包括：SiO₂层，SiON_x层，Si₃N₄层，SiON_x层，SiO₂层，和SiON_x层。

本发明的另一技术方案提供一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，该方法包括：(1)在玻璃基底的至少一个表面，依次叠层镀制SiO₂膜、SiON_x膜、Si₃N₄膜、SiON_x膜、SiO₂膜和SiON_x膜；(2)重复步骤(1)n次，在所述玻璃基底的至少一个表面镀制得到n组层叠的膜系，每组所述膜系从靠近所述玻璃基底向远离所述玻璃基底的方向依次包括：SiO₂层，SiON_x层，Si₃N₄层，SiON_x层，SiO₂层，SiON_x层；(3)在所述n组膜系的最外层膜表面，镀制Si₃N₄膜。