[发明专利]激光系统以及光刻设备在审
| 申请号： | 201810916154.3 | 申请日： | 2018-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN110824852A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 张俊霖;易威廷;陈政宏;傅中其;刘柏村;陈立锐;郑博中 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种激光系统，包括一种子激光装置，配置以发射一输出激光、以及一激光功率放大装置，配置以放大输出激光的功率并发射输出激光。激光功率放大装置包括一容置腔，用以容纳一增益介质，包括一第一开口以及一第二开口、一入射透光元件，设置于第一开口、一出射透光元件，设置于第二开口、以及一能量泵浦，配置以提供能量于增益介质。入射透光元件与输出激光之间具有一第一布鲁斯特角。本公开还提供一种光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 系统 以及 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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