[发明专利]一种卡格列净4-位异构体杂质及其制备方法在审
| 申请号： | 201810891508.3 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN109096270A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 郑晨光;陈加峰;朱元勋;王鹏 | 申请（专利权）人： | 浙江华海致诚药业有限公司;浙江华海药业股份有限公司 |
| 主分类号： | C07D409/10 | 分类号： | C07D409/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 317016 浙江省台州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种卡格列净4‑位异构体杂质及其制备方法，其结构式如式I所示，其制备方法以2‑(4‑溴‑2‑甲基苄基)‑5‑(4‑氟苯基)噻吩为起始原料，与式II化合物2,3,4,6‑四‑O‑三甲基硅基‑D‑葡萄糖酸内酯进行缩合反应、脱保护反应、再进行乙酰基保护反应、还原反应、最后在碱的作用下脱保护得到式I所示的卡格列净4‑位异构体杂质； |
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| 搜索关键词： | 位异构体 制备 卡格 葡萄糖酸内酯 反应时间短 高纯度产物 三甲基硅基 脱保护反应 乙酰基保护 反应条件 合成路线 还原反应 甲基苄基 起始原料 缩合反应 氟苯基 副产物 脱保护 式II 收率 | ||
【主权项】：
1.一种卡格列净4‑位异构体杂质，其结构如式1所示：![]()
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