[发明专利]一种卡格列净4-位异构体杂质及其制备方法在审
| 申请号: | 201810891508.3 | 申请日: | 2018-08-07 |
| 公开(公告)号: | CN109096270A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
| 发明(设计)人: | 郑晨光;陈加峰;朱元勋;王鹏 | 申请(专利权)人: | 浙江华海致诚药业有限公司;浙江华海药业股份有限公司 |
| 主分类号: | C07D409/10 | 分类号: | C07D409/10 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 317016 浙江省台州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 位异构体 制备 卡格 葡萄糖酸内酯 反应时间短 高纯度产物 三甲基硅基 脱保护反应 乙酰基保护 反应条件 合成路线 还原反应 甲基苄基 起始原料 缩合反应 氟苯基 副产物 脱保护 式II 收率 | ||
1.一种卡格列净4-位异构体杂质,其结构如式1所示:
2.一种制备如权利要求1所述的卡格列净4-位异构体杂质的方法,该方法包括以下步骤:
a)以2-(4-溴-2-甲基苄基)-5-(4-氟苯基)噻吩为起始原料,在丁基锂的作用下,与式II化合物2,3,4,6-四-O-三甲基硅基-D-葡萄糖酸内酯在有机溶剂中进行缩合反应,再在得到的反应混合物中加入酸进行脱保护反应得到式III化合物;
b)然后在碱的作用下,与乙酸酐进行乙酰基保护反应得到式IV化合物;
c)然后在路易斯酸的存在下,与还原剂在有机溶剂中进行还原反应得到式V化合物;
d)最后在碱的作用下将式V化合物在有机溶剂中脱保护得到式I所示的卡格列净4-位异构体杂质;
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤a)中的有机溶剂为甲苯、四氢呋喃、乙醚中的一种或其混合溶剂;所述的酸为甲磺酸、对甲苯磺酸或三氟乙酸。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤b)中的碱为三乙胺、N-甲基吗啉或三丁胺。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤c)中的有机溶剂为二氯甲烷、甲苯、氯仿、四氯化碳中的一种或其混合溶剂;所述的路易斯酸为三氯化铝、三氟乙酸或三氟化硼乙醚溶液;所述的还原剂为三乙基硅烷、苯基二甲基硅烷或1,1,3,3-四甲基二硅氧烷。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤d)中的反应有机溶剂为四氢呋喃、水、乙醇、甲醇的一种或其混合溶剂;所述的碱为氢氧化钠、氢氧化钾、乙醇钠、甲醇钠或叔丁醇钾。
7.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤a)中的有机溶剂用量与2-(4-溴-2-甲基苄基)-5-(4-氟苯基)噻吩的质量比为5.0:1~20:1,优选为6:1~15:1;所述的酸用量与2-(4-溴-2-甲基苄基)-5-(4-氟苯基)噻吩的摩尔比为1:1~6:1,优选为2:1~4:1;所述丁基锂的用量与2-(4-溴-2-甲基苄基)-5-(4-氟苯基)噻吩的摩尔比为1:1~2.5:1,优选为1.1:1~1.5:1;式II反应物的用量与2-(4-溴-2-甲基苄基)-5-(4-氟苯基)噻吩的摩尔比为1:1~2.5:1,优选为1.1:1~1.5:1。
8.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤b)中的所述碱的用量与式III化合物的摩尔比为4:1~15:1,优选为6:1~10:1。
9.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤c)中的所述还原剂的用量与式III化合物的摩尔比为1:1~5:1,优选为2.5:1~3.5:1;所述路易斯酸的用量与式III化合物的摩尔比为1:1~5:1,优选为2.5:1~3.5:1。
10.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤d)中的反应有机溶剂用量与式V化合物的质量比为10:1~30:1,优选为15:1~20:1;所述碱的用量与式V化合物的摩尔比为4:1~15:1,优选为7:1~10:1。
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