[发明专利]一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置有效
| 申请号： | 201810835651.0 | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN108919569B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 杜宏伟;李圭铉;陈都 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;贾玉 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置，所述掩膜版，用于制作显示基板上的柱状隔垫物，包括遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形。采用本发明实施例的掩膜版制作隔垫物时，能够遮挡、吸收开口图形双边的平行半角的紫外线，使得制作的隔垫物的顶部尺寸与底部尺寸的差值减少，从而能在隔垫物底部尺寸不变的情况下，增大制得的隔垫物的顶部尺寸，提升制得的隔垫物的支撑力，从而能有效避免Mura不良。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，用于制作显示基板上的柱状隔垫物，其特征在于，所述掩膜版包括遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形。
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