[发明专利]一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种掩膜版，用于制作显示基板上的柱状隔垫物，其特征在于，所述掩膜版包括遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形；

所述掩膜版还包括透明衬底，所述遮光层设置于所述透明衬底上，制作柱状隔垫物的光线先经过透明衬底，后经过遮光层，遮光层包括三层遮光膜，最靠近透明衬底的一层遮光膜采用铬形成，位于中间的一层遮光膜采用铬的氮化物形成，最远离透明衬底的一层遮光膜采用铬的氧化物形成。

2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，在设定刻蚀条件下，从靠近所述透明衬底到远离所述透明衬底的方向上，所述三层遮光膜的刻蚀速率逐渐变小。

3.一种掩膜版的制作方法，所述掩膜版用于制作显示基板上的柱状隔垫物，其特征在于，所述方法包括：

形成所述掩膜版的遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形；

所述掩膜版还包括透明衬底，所述遮光层设置于所述透明衬底上，制作柱状隔垫物的光线先经过透明衬底，后经过遮光层，遮光层包括三层遮光膜，最靠近透明衬底的一层遮光膜采用铬形成，位于中间的一层遮光膜采用铬的氮化物形成，最远离透明衬底的一层遮光膜采用铬的氧化物形成。

4.如权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述形成所述掩膜版的遮光层的步骤包括：

提供一透明衬底；

在所述透明衬底上依次形成三层遮光膜，其中，在设定刻蚀条件下，从靠近所述透明衬底到远离所述透明衬底的方向上，所述三层遮光膜的刻蚀速率逐渐变小；

在所述三层遮光膜上形成光刻胶层；

对所述光刻胶层进行构图，形成光刻胶保留区和光刻胶去除区，所述光刻胶去除区对应所述开口图形；

在设定刻蚀条件下，对所述光刻胶去除区的所述三层遮光膜进行刻蚀，得到所述遮光图形和所述开口图形；

去除剩余的光刻胶层。

5.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

采用如权利要求1-2任一项所述的掩膜版制作柱状隔垫物，所述柱状隔垫物的顶部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于预设阈值。

6.一种显示基板，其特征在于，

所述显示基板采用如权利要求5所述的显示基板的制作方法制作而成，包括：

柱状隔垫物，所述柱状隔垫物的顶部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于预设阈值。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的显示基板。