[发明专利]一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置

说明书

本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置，所述掩膜版，用于制作显示基板上的柱状隔垫物，包括遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形。采用本发明实施例的掩膜版制作隔垫物时，能够遮挡、吸收开口图形双边的平行半角的紫外线，使得制作的隔垫物的顶部尺寸与底部尺寸的差值减少，从而能在隔垫物底部尺寸不变的情况下，增大制得的隔垫物的顶部尺寸，提升制得的隔垫物的支撑力，从而能有效避免Mura不良。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置。

背景技术

液晶显示面板部分主要是由阵列基板、彩膜(Color Filter，简称CF)基板以及两者间的液晶组成。彩膜基板还设有柱状隔垫物(Photo Spacer，简称PS)，用于支持液晶盒厚，以保持基板之间液晶的厚度均一性。

随着科技的发展，对隔垫物的尺寸要求也越来越严格。例如：采用G8.5世代的设备和工艺设计标准生产的超精细像素(High pixel Per Inch，简称High PPI)显示装置、应用高开口率且高级超维场开关技术(High-Adwanced dimension Switch，HADS)的笔记本(NoteBook，NB)和手机(mobile)，要求隔垫物底部尺寸(PS Bottom CD)在15～25μm，由于濒临甚至超出了G8.5世代的设备和工艺设计标准，隔垫物顶部尺寸(PS Top CD)相应的在10～12微米，显示面板(Panel)的单位支撑面积只能达到设计的40％～60％。因隔垫物支撑力不足导致的产品Mura，长期保持5％以上不能解决。从而，要求高透过率、高分辨率、像素面积精细化的高端产品往往只能转向小世代产线或接受低良率，严重影响了高端产品的开发进度。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法和显示装置，以解决现有技术中制作的隔垫物的支撑力不足的技术问题。

为解决上述技术问题，第一方面，本发明提供一种掩膜版，用于制作显示基板上的柱状隔垫物，所述掩膜版包括遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形。

优选的，所述掩膜版还包括透明衬底，所述遮光层设置于所述透明衬底上。

优选的，所述遮光层包括至少两层遮光膜，其中，在设定刻蚀条件下，从靠近所述透明衬底到远离所述透明衬底的方向上，所述至少两层遮光膜的刻蚀速率逐渐变小。

优选的，最靠近所述透明衬底的所述遮光膜采用铬形成，其他所述遮光膜采用非铬金属、铬的化合物和/或透明导电氧化物形成。

第二方面，本发明提供一种掩膜版的制作方法，所述掩膜版用于制作显示基板上的柱状隔垫物，所述方法包括：

形成所述掩膜版的遮光层，所述遮光层包括遮光图形和由所述遮光图形包围的多个开口图形，在垂直于所述掩膜版平面的方向上，所述开口图形的截面呈倒梯形，所述倒梯形不是直角梯形。

优选的，所述形成所述掩膜版的遮光层的步骤包括：

提供一透明衬底；

在所述透明衬底上依次形成至少两层遮光膜，其中，在设定刻蚀条件下，从靠近所述透明衬底到远离所述透明衬底的方向上，所述至少两层遮光膜的刻蚀速率逐渐变小；

在所述至少两层遮光膜上形成光刻胶层；

对所述光刻胶层进行构图，形成光刻胶保留区和光刻胶去除区，所述光刻胶去除区对应所述开口图形；

在设定刻蚀条件下，对所述光刻胶去除区的所述至少两层遮光膜进行刻蚀，得到所述遮光图形和所述开口图形；