[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种从具有多个加热器的静电卡盘侧延伸到腔室主体的外侧的多个配线各自的寄生电容小的等离子体处理装置。在一个实施方式的等离子体处理装置中，在腔室主体内设置有静电卡盘和下部电极。下部电极经由导体管而与高频电源电连接。在静电卡盘内设置有多个加热器。多个加热器经由多个供电线而与加热器控制器电连接。在多个供电线上分别设置有多个滤波器。多个供电线分别包括从静电卡盘侧延伸到腔室主体的外侧的多个配线。多个配线穿过导体管的内孔而延伸。

主权项

1.一种等离子体处理装置，具备：腔室主体，其提供腔室；载置台，其构成为在所述腔室内支承被加工物，所述载置台具有下部电极和设置在所述下部电极上的静电卡盘，所述静电卡盘具有设置于其内部的多个加热器以及与该多个加热器电连接的多个端子；高频电源，其配置于所述腔室主体的外侧，产生向所述下部电极供给的高频；导体管，其将所述高频电源与所述下部电极电连接，从所述下部电极侧延伸到所述腔室主体的外侧；多个供电线，所述多个供电线设置为将来自加热器控制器的电力向所述多个加热器供给；以及多个滤波器，所述多个滤波器各自的一部分构成所述多个供电线，并且构成为防止高频从所述多个加热器向所述加热器控制器流入，所述多个滤波器设置于所述腔室主体的外侧，其中，所述多个供电线包括将所述多个端子与所述多个滤波器分别连接的多个配线，所述多个配线穿过所述导体管的内孔而延伸到所述腔室主体的外侧。