[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶面板在审
申请号: | 201810790668.9 | 申请日: | 2018-07-18 |
公开(公告)号: | CN108919550A | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 袁夏梁 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板。该制作方法包括:在基板上形成限定出多个像素区的黑色矩阵;对所述黑色矩阵的表面进行疏水化处理;在每个所述像素区内形成彩色光阻。该液晶面板包括上述的彩膜基板、与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶。该在黑色矩阵制作完成后,对黑色矩阵的表面进行疏水化处理,这样在制作彩色光阻时,便于去除黑色矩阵上方的彩色光阻层,防止彩色光阻的边缘搭接在黑色矩阵上形成牛角,保证彩色光阻的表面平整。 | ||
搜索关键词: | 黑色矩阵 彩膜基板 彩色光阻 液晶面板 制作 疏水化处理 阵列基板 彩色光阻层 表面平整 对盒设置 牛角 像素区 搭接 基板 像素 去除 填充 液晶 保证 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:S1:在基板(10)上形成限定出多个像素区(10a)的黑色矩阵(20);S2:对所述黑色矩阵(20)的表面进行疏水化处理;S3:在每个所述像素区(10a)内形成彩色光阻(30)。
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