[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶面板在审
| 申请号： | 201810790668.9 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN108919550A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 袁夏梁 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 黑色矩阵 彩膜基板 彩色光阻 液晶面板 制作 疏水化处理 阵列基板 彩色光阻层 表面平整 对盒设置 牛角 像素区 搭接 基板 像素 去除 填充 液晶 保证 | ||
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：
S1：在基板(10)上形成限定出多个像素区(10a)的黑色矩阵(20)；
S2：对所述黑色矩阵(20)的表面进行疏水化处理；
S3：在每个所述像素区(10a)内形成彩色光阻(30)。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，步骤S1具体包括：
在所述基板(10)上形成黑色光阻层(20A)；
利用具有预定图案的光罩(50)对所述黑色光阻层(20A)进行曝光；
对曝光后的所述黑色光阻层(20A)进行显影，以形成所述黑色矩阵(20)。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，对曝光后的所述黑色光阻层(20A)进行显影处理之后，所述制作方法还包括：利用紫外光照射所述黑色矩阵(20)，以将所述黑色矩阵(20)固化，从而使得所述黑色矩阵(20)的横截面的形状为倒梯形。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，步骤S2具体为：采用等离子体工艺对所述黑色矩阵(20)的表面进行处理，以在所述黑色矩阵(20)的表面形成疏水层。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述等离子体工艺中采用的工作气体为四氟甲烷。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，步骤S2具体为：在所述黑色矩阵(20)的表面涂覆疏水材料，以在所述黑色矩阵(20)的表面上形成疏水层。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，步骤S3具体包括：
在所述黑色矩阵(20)和所述基板(10)上涂覆彩色光阻层(30A)；
对所述彩色光阻层(30A)进行曝光和显影处理，以去除所述黑色矩阵(20)表面上的彩色光阻层(30A)，从而在所述黑色矩阵(20)之间形成所述彩色光阻(30)。
8.根据权利要求1或7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩色光阻(30)的厚度与所述黑色矩阵(20)的厚度相同。
9.一种采用如权利要求1至8任一项所述的制作方法制成的彩膜基板。
10.一种液晶面板，其特征在于，包括权利要求8所述的彩膜基板(100)、与所述彩膜基板(100)对盒设置的阵列基板(200)以及填充于所述彩膜基板(100)与所述阵列基板(200)之间的液晶。
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